伴隨著產(chǎn)品可靠性、加工工藝精密化、產(chǎn)品微型化以及產(chǎn)品高純度等要求而不斷地發(fā)展的，可以看出無論是在陀螺儀制造過程中最開始的空氣凈化技術(shù)應用，還是在戰(zhàn)爭中發(fā)現(xiàn)電子儀器失靈原因是灰塵作怪，空氣凈化為滿足更高環(huán)境需求中不斷發(fā)展，應用領(lǐng)域不斷延伸。

　　國際上空氣凈化技術(shù)應用經(jīng)歷了以下階段：

　　20世紀20年代，美國航空業(yè)的陀螺儀制造過程中最先提出了生產(chǎn)環(huán)境凈化要求，在制造車間、實驗室建立了“控制裝配區(qū)”，供給一定量過濾后的空氣。在朝鮮戰(zhàn)爭中，美國找到了電子儀器出故障主要原因是灰塵作怪，從而促成了空氣凈化的起步。

　　1957年，前蘇聯(lián)第一顆人造衛(wèi)星升空，刺激美國加速發(fā)展宇航事業(yè)，制定了阿波羅號登月計劃，其電子控制儀器和精密機械加工環(huán)境均要求凈化，因而促進了凈化技術(shù)大發(fā)展，建造了百級潔凈室，誕生了第一個潔凈室標準。

　　1970年，lk位的集成電路開始大規(guī)模生產(chǎn)，使?jié)崈艏夹g(shù)發(fā)展突飛猛進。20世紀80年代，大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)，使空氣潔凈技術(shù)有了進一步的發(fā)展，集成電路的最細光刻線寬達到2~3pr^在70年代末和80年代初，美國、日本研制出0.1pm級髙效空氣過濾器，為潔凈度的提高創(chuàng)造了條件。

　　在20世紀90年代，超大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)有了新的進展，最細光刻線寬由80年代的微米級發(fā)展到亞微米級。到20世紀末，要求達到0.1?0.2MJT1,集成度達到lkM。集成電路的集成度越高，要求的光刻線寬就越小，則要求控制的塵粒粒徑就越小，塵粒數(shù)童也越少。如今，要求0.1pLmlO級的潔凈度已經(jīng)很普遍，將來要求的潔凈度會更高，潔凈室的應用領(lǐng)域會更加寬廣。

　　電子產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展，將推動我國潔凈技術(shù)向高水平發(fā)展，而醫(yī)學與藥物的快速發(fā)展，必將使?jié)崈艏夹g(shù)應用更加廣泛。我國在制藥行業(yè)實施GMP(GoodManufacturingPractice)認證制度以來，生物潔凈室的興建像雨后春筍，給潔凈技術(shù)產(chǎn)業(yè)帶來空前的繁榮。

　　在21世紀，生物工程對人類的直接影響將超過芯片，而其發(fā)展離不開空氣潔凈。如生物工程中有相當一部分操作存在潛在危險性，特別是存在可能具有未知毒性的微生物新種傳播生物學危險。這就需要提供具有生物安全的建筑微環(huán)境，可利用空氣潔凈技術(shù)、生物安全知識來建造生物安全潔凈室(實驗室)來控制這種具有生物學危險的污染的傳播。

　　采用生物學工藝制成生物活性制劑，即生物藥品，其生產(chǎn)過程需保持無菌，并且最終不能滅菌。因此，生產(chǎn)過程應實行微環(huán)境無菌控制，有很大一部分還需要實行生物安全，這種控制過程都需要應用凈化技術(shù)來實現(xiàn)。

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